黑矩阵

黑矩阵（black matrix），工学-光学工程-材料与器件-有机发光材料与有机发光显示技术-有机发光材料发光层，为了提高显示的对比度，防止漏光、混色，对TFT中的α-Si进行遮光（减少光电噪声）等，在发光像素四周，将不希望让光通过的部分遮住的膜状结构。黑矩阵的制造通常采用一般的光刻法，首先沉积或涂布黑矩阵材料薄膜，然后涂覆正型抗蚀层，接着曝光、显影、刻蚀、剥离抗蚀层，最终形成黑矩阵。黑矩阵材料可分为无机和有机两类。无机类主要是铬和氧化铬薄膜（Cr/CrOx）,其他的还有CrOxNy/CrNy、Si/SiO及SiOxNy等。用无机材料做黑矩阵，一般要用真空溅射沉积，并做成多层结构；有机的是一些散布了颜料的聚合物。例如用丙烯酸系树脂，并添加甲基丙烯酸衍生共聚物、多官能丙烯酸酯单体与双三氯甲基三嗪，颜料包括蓝、黄、紫、红等成分，如果采用光敏树脂做基材，则可大大简化上述制造黑矩阵的工序。目前主要用无机型黑矩阵。一般评价黑矩阵的性能用两个指标：高的光学密度（OD）和低的反射率，OD可用下式计算：式中为透射谱； 为视觉响应曲线（明视觉）。一般要求1μm厚BM的OD值大于3。