聚焦离子束（focused ion beam; FIB），工学-核技术-工业核技术，束斑聚焦到纳米到几微米的高束流密度的离子束。简史R.莱维-塞蒂等人在1974年，J.奥尔洛夫、L.W.斯旺松等人在1975年分别研制了采用气体场电离离子源的聚焦离子束系统，但这种早期的聚焦离子束（FIB）装置束流强度低，且离子源需要低温环境，运行和操作存在诸多不便。1978年美国休斯研究所的R.L.塞利格等人研制了首台采用液态金属离子源的FIB装置，其束斑直径为100纳米，束流密度达到1.5安培/厘米2，从而使FIB技术达到实用水平。