低温恒温循环器

（热学）
低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体，以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。低温恒温循环器
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