纳米抛光（nano polish），工学-材料科学与工程-纳米材料-纳米技术，利用各种抛光技术使材料表面的粗糙程度达到纳米量级，实现超光滑抛光的技术。纳米抛光的特征为尽可能小的表层和亚表层损伤、表面残余应力极小、晶体表面具有完整的晶体结构。20世纪60～70年代，美国、日本等在传统抛光法的基础上，改造加工设备，选择适当的辅料和加工技术，得到超光滑表面。之后，离子束抛光、等离子体抛光、化学机械抛光等抛光技术相继出现。根据加工过程中工件和抛光盘之间的接触状态，纳米抛光可分为接触、准接触和非接触3种类型。各种抛光方法均只有一种接触状态，并在抛光过程中基本保持不变。①接触式抛光，由传统的抛光盘模式发展而来，抛光盘和材料在抛光过程中直接发生接触，依靠抛光磨料的机械磨削作用和抛光盘的摩擦作用去除材料。浴法抛光、水合抛光都属于接触式抛光。②非接触抛光，工件与抛光盘在抛光时不发生接触，仅用抛光液冲击工件表面，以获得完美结晶性和精确面型的加工表面的抛光方法。浮法抛光、激光抛光、离子束抛光、等离子体抛光都属于非接触抛光。③准接触抛光，在抛光过程中产生的动压使抛光盘和工件之间存在合适的间隙。