激光直写是制作衍射光学元件的主要技术之一，它利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的浮雕轮廓。激光直写制作衍射光学元件（DOE）是把计算机控制与微细加工技术相结合，为DOE设计和制作的方法提供了极大的灵活性，制作精度可以达到亚微米量级。衍射光学元件（Diffractive Optical Element，简称DOE）是以光的标量和矢量衍射理论为基础，用计算机辅助设计，通过超大规模集成电路（VLSI）工艺等微细加工手段制作的一种新型光学元件。它是以片基上多台阶浮雕结构或连续浮雕结构和极高的衍射效率为特点，具有许多传统光学元件难以实现的功能。它可单独或与其它类型元件混合应用于常规光学系统，校正光学系统像差，缩小体积，减轻重量，从而促进光学系统实现微型化、阵列化和集成化。它是光学与微电子学相互渗透 交叉的产物，成为光学领域中最具活力、最具发展潜力的光学器件。DOE应用十分广泛 它在空间光学 光学通讯等领域上的应用开发，潜藏着巨大的经济效益，迅速地受到了包括学术、科研、军事、工业和商业等各界的重视。