铝硅铜
(半导体相关)
Al-Cu-Si铝硅铜金属溅镀时所使用的原料名称,通常是称为Target,其成份为0.5%铜,1%硅及98.5%铝,一般制程通常是使用99%铝1%硅.后来为了金属电荷迁移现象(Electromigration)故渗加0.5%铜降低金属电荷迁移。
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