溅射蚀刻

（电器电子）
干法蚀刻有溅射蚀刻、等离子蚀刻和反应离子蚀刻三种主要方法。离溅射蚀刻利用低气压下惰性气体辉光放电所产生的离子加速后入射到薄膜表面使裸露的薄膜被溅射而除去。溅射蚀刻又称为离子铣蚀刻。
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