显影速率

（化学 名词）
显影速率是表征光刻工艺模块显影过程的一个重要参数，一般是一个半经验的拟合函数[1]。（1）尽管在学术界已提出了多种显影速率方程，但运用最广的是其中三种，即: Mack原始速率方程、Mack增强型速率方程和Notch速率方程。Mack原始速率方程是用于电子束曝光掩模版制造的显影模型，是从光学曝光模型借用来的，其形式为（对于正性抗蚀剂）[1]：
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