掩模
(机械)
掩模版(mask)简称掩模,是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中,掩模作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模(reticle)。
用户数据
参数表
继承树
构成树
关注人数:
0
技点进度:
0
/
0
题库进度:
0
/
0
技能进度:
0
/
关注级别:
取消关注
【参数模块正在开发当中】