膜厚仪是薄膜厚度测量仪的简称，是一种用来在线并定量的测量透光或者半透光的各种薄膜厚度的仪器仪表，通常采用光干涉原理测量薄膜厚度。膜厚仪的作用 可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。 膜厚仪的特点 1,可以测量多层膜中每一层的厚度2,三维的厚度型貌3,远程控制和在线测量4,可做150mm or 300mm 的大范围的扫描测试5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等 膜厚仪的技术参数 厚度测量:10纳米-250微米; 可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;波长: 250-1100nm厚度范围: 10nm--250m分辨率: 0,1nm重复性: 0,3nm准确率: <1[%] (100nm--100m)测试时间: 100ms -- <1s分析层数: 1-- 4离光纤距离: 1-5mm离距离: 5mm-- 100mm入射角度: 90°光斑点大小: 400m微光斑手段: 与显微镜联用,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnif